鹽霧試驗是一種主要利用鹽霧試驗設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗。那么關(guān)于鹽霧試驗的標準有哪些呢？

　　1鹽霧試驗的國家標準范圍
　　
　　本標準規(guī)定了中性鹽霧（NSS），乙酸鹽霧（AASS）和銅加速乙酸鹽霧（CASS）試驗使用的設(shè)備，試劑和方法。
　　
　　本標準也規(guī)定了評估試驗箱環(huán)境腐蝕性的方法。
　　
　　本標準未規(guī)定試樣尺寸，特殊產(chǎn)品的試驗周期和結(jié)果解釋，這些內(nèi)容參見相應(yīng)的產(chǎn)品規(guī)范。
　　
　　本標準適用于評價金屬材料及覆蓋層的耐蝕性，被測試對象可以是具有*性或暫時性防蝕性能的，也可以是不具有*性或暫時性防蝕性能的。
　　
　　本標準的中性鹽霧試驗適用于金屬及其合金、金屬覆蓋層、有機覆蓋層、陽極氧化膜和轉(zhuǎn)化膜。乙酸鹽霧試驗和銅加速乙酸鹽霧試驗適用于銅+鎳+鉻或鎳+鉻裝飾性鍍層，也適用于鋁的陽極氧化膜。
　　
　　2鹽霧試驗的國家標準引用標準
　　
　　下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構(gòu)成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效，所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應(yīng)探討使用下列標準版本的可能性。
　　
　　GB5213—85深沖壓用冷軋薄鋼板和鋼帶
　　
　　GB6461—86金屬覆蓋層對底材為陰極的覆蓋層腐蝕試驗后的電鍍試樣的評級
　　
　　（eqvISO4540：1980）
　　
　　GB12335—90金屬覆蓋層，對底材呈陽極性的覆蓋層腐蝕試驗后的試樣的評級
　　
　?。╡qvISO8403：1991）
　　
　　GB/T9798—1997金屬覆蓋層鎳電沉積層(eqvISO1458：1988）
　　
　　ISO6372-1：1989鎳和鎳合金—名詞術(shù)語和定義—*部分：材料
　　
　　3鹽霧試驗的國家標準試驗溶液
　　
　　3.1氯化鈉溶液配制
　　
　　本試驗所用試劑采用化學純或化學純以上的試劑。將氯化鈉溶于電導率不超過20μS/cm的蒸餾水或去離子水中，其濃度為50g/L±5g/L。在25℃時，配制的溶液密度在l.0255～l.0400范圍內(nèi)。
　　
　　3.2調(diào)整pH
　　
　　根據(jù)收集的噴霧溶液的pH值調(diào)整鹽溶液到規(guī)定的pH值。
　　
　　3.2.1中性鹽霧試驗（NSS試驗）
　　
　　調(diào)整按3.1配制的鹽溶液的pH值，使其在6.5～7.2之間。pH值的測量可使用酸度計，作為日常檢測也可用測量精度為0.3的精密pH試紙。溶液的pH值可用鹽酸或氫氧化鈉調(diào)整。
　　
　　噴霧時溶液中二氧化碳損失可能導致pH值變化。應(yīng)采取相應(yīng)措施，例如，將溶液加熱到超過35℃，才送入儀器或由新的沸騰水配制溶液，以降低溶液中的二氧化碳含量，可避免pH值的變化。
　　
　　3.2.2乙酸鹽霧試驗（AASS試驗）
　　
　　在按3.1制備的鹽溶液中加入適量的冰乙酸，以保證鹽霧箱（見4.2）內(nèi)收集液的pH值為3.1～3.3如初配制的溶液pH值為3.0～3.1，則收集液的pH值一般在3.1～3.3范圍內(nèi)。pH值的測定用酸度計，作為日常檢測也可用測量精度為O.1的精密pH試紙。溶液的pH值可用冰乙酸或氫氧化鈉調(diào)整。
　　
　　3.2.3銅加速乙酸鹽霧試驗（CASS試驗）
　　
　　在按3.2制備的鹽溶液中，加入氯化銅（CuCl2·2H2O），其濃度為0.26g/L±0.02g/L（即0.205g/L±0.015g/L無水氯化銅）。溶液的pH值調(diào)整方法與3.2.2相同。
　　
　　3.3過濾
　　
　　為避免堵塞噴嘴，溶液在使用之前必須過濾。
　　
　　4鹽霧試驗的國家標準試驗設(shè)備
　　
　　4.1用于制作試驗設(shè)備的材料必須抗鹽霧腐蝕和不影響試驗結(jié)果。
　　
　　4.2鹽霧箱的容積不小于0.2m3，不小于0.4m3。箱頂部要避免試驗時聚積的溶液滴落到試樣上。箱子的形狀和尺寸應(yīng)能使箱內(nèi)溶液的收集速度符合8.3規(guī)定。
　　
　　注1：鹽霧箱的設(shè)計簡圖見附錄A（提示的附錄）。
　　
　　4.3加熱系統(tǒng)應(yīng)保持箱內(nèi)溫度達到8.1規(guī)定。溫度測量區(qū)距箱內(nèi)壁不小于100mm，并能從箱外讀數(shù)。
　　
　　4.4噴霧裝置包括下列部分：
　　
　　a）噴霧氣源：壓縮空氣應(yīng)通過過濾器，以除油凈化；然后進入裝有蒸餾水的飽和塔濕化，其溫度應(yīng)高于鹽霧箱內(nèi)試驗溫度。zui后通過調(diào)壓閥進入噴霧器，壓力應(yīng)控制在7OkPa～17OkPa范圍內(nèi)。
　　
　　B）噴霧系統(tǒng)：由噴霧器、鹽水槽和擋板組成。噴霧器可用一個或多個?？烧{(diào)式擋板能防止鹽霧直接噴射到試樣上。噴霧器和擋板放置的位置對鹽霧均勻分布有影響。
　　
　　C）鹽水槽：為保證均勻噴霧，應(yīng)有維持一定液位的裝置。調(diào)節(jié)噴霧壓力、飽和塔水的溫度和擋板位置使箱內(nèi)鹽霧沉降量和收集速度符合8.3規(guī)定。